酸化スズの薄膜成長

DOI

書誌事項

タイトル別名
  • Thin film growth of tin oxide

説明

酸化スズは、透明導電膜、触媒、ガスセンサーとして広く研究されている。本研究では、触媒やガスセンサーとしての機能の解明及びその向上のための酸化スズ表面での反応解析に利用可能な、単結晶性酸化スズ薄膜の作製を目指している。今回は、酸化スズの薄膜成長における、酸素分圧とエピタキシャル成長について検討した。基板として、ルチル（１１０）を、酸化剤として二酸化窒素を用いMBE法により酸化スズを成長させた。薄膜は電子線回折及びＡＦＭ、XPS、ＸＲＤにより評価した。

収録刊行物

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205617814912
  • NII論文ID
    130006975976
  • DOI
    10.14853/pcersj.2009f.0.2p09.0
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

問題の指摘

ページトップへ