PLD法を用いた窒化ホウ素薄膜の合成
書誌事項
- タイトル別名
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- Synthesis of Boron Nitride Thin Films by PLD Method
抄録
本研究では、PLD法と窒素ラジカル照射を組み合わせることにより種々の条件でalpha-Al2O3、MgO基板上に長距離秩序を持つ窒化ホウ素薄膜を合成し、その構造について調べた。またPLD法を用いた交互蒸着によりアルカリ金属、アルカリ土類金属を窒化ホウ素の層間へドープすることを試みた。
収録刊行物
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- 日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
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日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集 2009F (0), 2PG11-2PG11, 2009
公益社団法人 日本セラミックス協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205618165376
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- NII論文ID
- 130006976526
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可