軟X線及び電子線照射によりプラスミドDNA中に生成する塩基損傷及びAPサイト
書誌事項
- タイトル別名
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- Base lesions and AP sites induced in plasmid DNA film irradiated with soft X-rays and low energy electrons
抄録
数keV以下の軟Ｘ線は、DNAを構成する元素の内殻電子の励起を引き起こすエネルギー領域を含んだ電磁波である。我々は、放射光を光源として用い、軟Ｘ線のエネルギーの違いがどのようなDNA損傷の違いをもたらすかについて、その生成過程を含めて研究している。昨年の本大会で、窒素及び酸素のK殻イオン化領域の軟X線を照射することで、DNA内に選択的に鎖切断あるいは塩基損傷を引き起こせることを報告した。内殻電子の励起の後、外殻の電子が内殻に遷移してくるとき、オージェ電子が外殻軌道から放出される。オージェ電子の飛程は短く、励起した原子の近くの原子をさらに励起・イオン化すると考えられているが、これらの2次電子の効果はまだ明らかにされていない。本研究では、鎖切断や塩基損傷に加えAPサイトを定量し、内殻イオン化により生じる光電子やオージェ電子が選択的損傷生成に果たす役割を明らかにすることを目的とする。試料には、プラスミドDNA(pUC18)を用い、ピリミジン塩基損傷、プリン塩基損傷及びAPサイトの検出は、それぞれNth、Fpg、Nfoの3種類のDNAグリコシレースで処理しSSB(single strand break)に変えることで定量した。2次電子の効果については、オージェ電子と同程度のエネルギーの電子線をDNA薄膜に照射することで調べた。本講演では、それぞれの損傷収率を報告し、内殻イオン化によるDNA損傷の物理的な生成機構について議論する。
収録刊行物
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- 日本放射線影響学会大会講演要旨集
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日本放射線影響学会大会講演要旨集 2010 (0), 200-200, 2010
一般社団法人 日本放射線影響学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205640830080
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- NII論文ID
- 130007000471
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可