エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究(第1報)

DOI
  • 稲月 友一
    東京大学 工学系研究科 精密工学専攻
  • 梶原 優介
    東京大学 工学系研究科 精密工学専攻
  • 高橋 哲
    東京大学 工学系研究科 精密工学専攻
  • 高増 潔
    東京大学 工学系研究科 精密工学専攻

書誌事項

タイトル別名
  • Study on Nano-stereolithography using evanescent light(1nd report) Application of standing evanescent wave
  • 定在エバネッセント強度分布の適用

抄録

近年,光を利用した加工法,特にRP技術のひとつである光造形法が注目されている.本研究では,高分解能制御が可能な近接場光(エバネッセント光)を露光エネルギとして利用し,高精度かつ設計自由度の高いナノ構造創製技術の確立を目指す.第1報として,全反射を利用したエバネッセント光強度分布の制御法の確立に向け,対向ビーム入射による定在波を発生させる手法を提案し,その基礎実験を行う.

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205648392448
  • NII論文ID
    130004656593
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2004s.0.797.0
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
    • KAKEN
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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