IBFによる絶縁物の加工

DOI
  • 舟橋 克紘
    東京理科大学 基礎工学研究科電子応用工学専攻
  • 倉島 優一
    東京理科大学 基礎工学部電子応用工学科
  • 宮地 修平
    東京理科大学 基礎工学研究科電子応用工学専攻
  • 宮本 岩男
    東京理科大学 基礎工学部電子応用工学科
  • 沼田 敦司
    キヤノン 生産技術研究所機械加工第1研究室
  • 安藤 学
    キヤノン 生産技術研究所機械加工第1研究室

書誌事項

タイトル別名
  • Ion Beam Figuring of insulators
  • 電子ビームによる帯電の除去

抄録

EUVリソグラフィー装置の非球面ミラー基板の最終形状修正には,ナノメートルオーダの超微細加工精度が必要となっている.この加工技術としてイオンビーム加工が有力視されている.イオンビーム加工では被加工物が電気的に絶縁物である場合,イオンが表面に帯電してしまい,加工が不安定になる.本報告では,絶縁物をイオンビーム加工中に電子を照射しながら加工を行い,この時の加工特性を評価したのでこれについて報告する.

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205651139072
  • NII論文ID
    130004658447
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2006a.0.965.0
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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