旋回運動を適用した新たな高能率両面研磨装置の開発（第1報）
書誌事項
- タイトル別名
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- Development of a novel double-sided polishing machine with high efficiency using a circular movement
抄録
両面研磨装置の生産能力向上を目的として、全く新しい構造の研磨装置を提案並びに開発した。この装置は、旋回円運動を行なう上下定盤間に配置された試料パレットからなる。この方式では、回転中心軸を排するため、既存のホフマン式と比べて１工程の試料数を３倍程度搭載可能とする。また、本方式の特徴は試料が自転しないため、周速差が抑えられる。ＢＫ７光学ガラスを用いた研磨実験を行ったところ、均一な研磨面が得られた。
収録刊行物
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- 精密工学会学術講演会講演論文集
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精密工学会学術講演会講演論文集 2008A (0), 435-436, 2008
公益社団法人 精密工学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205652439168
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- NII論文ID
- 130004658639
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可