大気圧プラズマによるチャネルカット単結晶シリコンの内壁エッチング

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抄録

硬X線用モノクロメータとして一般的に用いられているチャネルカットSi結晶は,その加工の困難さから内壁表面近傍に結晶学的ダメージを多く有している.可干渉性の高い光源に適用する際,格子面の乱れはスペックルや波面の乱れ等を生じさせる.我々は内壁表面に対して大気圧プラズマを用いたエッチングを行い,X線トポグラフィによる評価の結果,表面粗さの劣化なくダメージが除去されていることが確認された.

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  • CRID
    1390001205654040448
  • NII論文ID
    130005472326
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2014s.0_1267
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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