離型剤と離型処理の違いによるモールドの耐久性

  • 岡田 真昇
    東京理科大 基礎工学研究科 電子応用工学専攻
  • 谷口 淳
    東京理科大 基礎工学研究科 電子応用工学専攻

説明

ナノインプリントリソグラフィはナノパターン成形において非常に有効である。インプリント時に接触させてパターンを形成するが、剥離の際にモールドの破損や光硬化樹脂が付着してしまうので、モールドを表面改質し離型性を向上させる必要がある。モールドの表面改質の際に用いられる離型剤と液相や気相などの離型処理方法を変えることにより、モールドの耐久性にどのような変化が生じるのかを検証した。

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205655063296
  • NII論文ID
    130004660987
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2012a.0.895.0
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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