Generation of Regular Micro Texture Surface Using Anisotropic Etching

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  • 異方性エッチングによる規則的マイクロテクスチャ面の創成

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高さが数μm程度で代表寸法が数μmの単位規則形状が規則的に配列したマイクロテクスチャ表面は,MEMSにおける摺動面の摩擦制御,光の特定波長反射面などさまざまな応用が期待できる．本研究では,SiO2あるいはSi3N4薄膜付きの単結晶Si基板について,薄膜をマスクとし,液相エッチングを用いて容易に任意の規則的マイクロテクスチャ面を得る手法を検討した．

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  • CRID
    1390001205655209984
  • NII Article ID
    130004660192
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2011a.0.363.0
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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