MgO(100)基板とスパッタ成膜したFe薄膜との界面におけるFeの化学状態評価

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タイトル別名
  • Chemical state analysis of iron at interface between sputter-deposited iron layer and MgO (100) substrate

抄録

多くの研究者によってトンネル磁気抵抗(TMR)素子の研究がなされ、TMR素子の作製・実験を行われている。しかし、多くの場合、絶縁物層と磁気電極層との界面において意図したトンネル結合が実現できていないため、理論的に予言されているTMR値に比べて著しく小さい素子しか得られていない。我々は、提唱されているTMR構造の一つであるFe/MgO/Fe構造に注目し、MgOとFeの界面におけるFeの化学状態をAESによって解明した。その結果、界面においてFeは金属状態ではなく、Fe-Mg-Oの酸化物を形成して存在することがわかった。

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205678546304
  • NII論文ID
    130004673894
  • DOI
    10.14886/sssj2008.28.0.105.0
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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