マイクロプローブホール電界イオン顕微鏡を用いた単一原子領域内のイオン生成率分布の精密測定

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タイトル別名
  • Measurement of field ion yield distribution above a single surface atom site using a micro-probe hole field ion microscope

抄録

電界イオン顕微鏡(FIM)における像形成の微視的なメカニズムの解明を目的として、マイクロプローブホールFIMを用い、W(111)結晶面上に形成したtrimerを構成する一つの原子に着目して、その領域内における電界イオン生成率分布の変化を30pmφの空間分解能で精密に計測した。得られた結果を、輝点位置の原子を含む隣接原子の配置に基づいた電場分布およびガス供給方向を考慮した模型と比較し、輝点の形成過程を定量的に解析した。

収録刊行物

詳細情報

  • CRID
    1390001205678603648
  • NII論文ID
    130005489378
  • DOI
    10.14886/sssj2008.35.0_339
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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