Stress evolution during Si(111) surface reconstruction
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- Asaoka Hidehito
- ASRC, JAEA
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- Uozumi Yuki
- ASRC, JAEA Hitachi Power
Bibliographic Information
- Other Title
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- Si(111)表面再構成過程のストレス変位
Abstract
表面に存在するストレスは成長原子の拡散、吸着過程などのカイネティクスを変化させるため、表面ストレスの解明・制御がナノ構造創製のために有力な手段となる。Si(111) 7x7再構成構造に内在するストレスを実験的に捉えるため、Ge/Si(111)ヘテロ成長過程のストレス変化の観測に加え、水素終端表面と、清浄再構成表面とのストレス差から、再構成構造に起因するストレスを捉えた。
Journal
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- Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan
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Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 35 (0), 425-, 2015
The Japan Society of Vacuum and Surface Science
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205679098880
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- NII Article ID
- 130005489473
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed