ガンマ線照射によるCVD-SiCの照射誘起絶縁劣化現象

DOI

書誌事項

タイトル別名
  • Radiation-induced Electrical Degradation of Gamma-ray Irradiated CVD-SiC

抄録

シリコン炭化物(SiC)は実用型核融合炉ブランケット内の中性子増倍材とトリチウム増殖材間を分離するための絶縁材料として期待されている。放射線照射環境下に曝されたSiCの電気特性の変化について調べることは、核融合炉ブランケット設計において極めて重要である。日本原子力研究開発機構(JAEA)高崎研究開発センターのガンマ線照射施設を利用して、放射線照射下においてSiCの電気伝導度をその場で測定した結果、照射下における電気伝導度は照射前の伝導度よりも高い値を示し、照射誘起伝導度が観測されることがわかった。さらに、照射後の電気伝導度は照射前の伝導度に比べてわずかに増加し、絶縁劣化が生じることも判明された。このSiC材料の照射誘起絶縁劣化現象はセラミックス材料の劣化現象より低線量で生じることが明らかになった。

収録刊行物

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205724634496
  • NII論文ID
    130007035601
  • DOI
    10.11561/aesj.2011f.0.751.0
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

問題の指摘

ページトップへ