書誌事項
- タイトル別名
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- In-Situ Observation of Thermal Behavior of Vacuum Deposited Al Films by Transmission Electron Microscopy
- デンシ ケンビキョウ ソノバ カンサツ ニヨル Al ジョウチャク マク ノ
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説明
NaCl基板上への真空蒸着により2種類のAlエピタキシャル膜を作製した後,透過電子顕微鏡内での加熱による熱的挙動を観察した. (III)単結晶膜においては,膜内に局在する転位の多くは873K以上の加熱によって膜外に去るとともに,小さな粒は縮小して消滅したため,膜の結晶性は向上した. (III)優先方位の多結晶膜においては,温度上昇に伴ってまず正常な粒成長が生じた. その後,873K以上の温度で新たに形成した結晶粒は,正常粒成長に比べて広い領域に及ぶ,熱流に沿う異常な成長を示した.
収録刊行物
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- 日本結晶成長学会誌
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日本結晶成長学会誌 22 (5), 364-368, 1995
日本結晶成長学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205864530304
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- NII論文ID
- 110002714573
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- NII書誌ID
- AN00188386
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- ISSN
- 21878366
- 03856275
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- NDL書誌ID
- 3924737
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
