Vortex glass phase in YBCO film with artificial pinning centers at low field
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- Harada Akira
- Faculty of Engineering, Kyusyu Institute of Technology
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- Warabino Ryusei
- Faculty of Engineering, Kyusyu Institute of Technology
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- Deguchi Hiroyuki
- Faculty of Engineering, Kyusyu Institute of Technology
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- Mitoh Masaki
- Faculty of Engineering, Kyusyu Institute of Technology
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- Horide Tomoya
- Faculty of Engineering, Kyusyu Institute of Technology
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- Jha A. K.
- Faculty of Engineering, Kyusyu Institute of Technology
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- Matsumoto Kaname
- Faculty of Engineering, Kyusyu Institute of Technology
Bibliographic Information
- Other Title
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- 磁束ピン止め中心を導入したYBCO薄膜の低磁場磁束グラス相
Abstract
<p>磁束ピン止め中心としてBaSnO3ナノロッドを4wt%導入したYBCO(Y123)薄膜を作成し、その弱磁場下における磁束グラス相の性質を調べた。下部臨界磁場(Hc1)よりずっと弱い低磁場下(1 Oe以下)で磁場中冷却をするとTc=90 K以下で熱残留磁化が出現した。交流磁化率測定を行ったところ、非線形磁化率がTcにおいてグラス転移を示唆する極大を示した。磁場中冷却磁化を測定したところ、0.5 Oe以上においてはTcより低温でマイスナー磁化を示したが、0.5 Oe以下では常磁性磁化が出現した。講演では、磁気緩和現象などのダイナミクスについても報告し、セラミクス試料との比較検討を行う。</p>
Journal
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- Meeting Abstracts of the Physical Society of Japan
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Meeting Abstracts of the Physical Society of Japan 71.2 (0), 1928-1928, 2016
The Physical Society of Japan
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205960133888
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- NII Article ID
- 130006244575
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- ISSN
- 21890803
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed