書誌事項
- タイトル別名
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- THE STUDY OF SIMULTANEOUS BI-PLANE RADIOGRAPH REPORT 1,THE ASPECT OF SIDE SCATTERS
- 同時二方向撮影の検討-1-側方散乱の様相
- ドウジ 2ホウコウ サツエイ ノ ケントウ 1 ソクホウ サンラン ノ ヨウソウ
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抄録
In the simultaneous bi-plane radiograph, side scattered x-rays from object have influence on another side film and they lower x-ray image quality on account of the fog. Using an automatic isodose plotter, we expressed the foggy films, for percentage of density, which was exposed by some exposure factors. And then we studied and compared the aspet of side scatters.
収録刊行物
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- 日本放射線技術学会雑誌
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日本放射線技術学会雑誌 24 (5), 353-358, 1969
公益社団法人 日本放射線技術学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001206364580736
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- NII論文ID
- 110003448175
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- NII書誌ID
- AN00197784
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- ISSN
- 18814883
- 03694305
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- NDL書誌ID
- 8403619
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可