[R-601] ワイドギャップ半導体・酸化ガリウムの最近の進展<BR>[R-602] TiSe₂への電界効果ドーピング

Details 詳細情報について

• CRID

  1390001206457087232

• NII Article ID

  130005241051

• DOI

  10.1380/jsssj.38.97

• ISSN

  18814743

  03885321

• Web Site

  https://www.jstage.jst.go.jp/article/jsssj/38/2/38_97/_pdf

• Text Lang

  ja

• Data Source

  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles