石英ガラスの衝撃値に及ぼす電子線照射の影響

DOI Web Site Web Site 被引用文献8件 参考文献13件
  • 岩田 圭祐
    東海大学大学院工学研究科金属材料工学専攻
  • 利根川 昭
    東海大学連合大学院理工学研究科理工学専攻
  • 西 義武
    東海大学大学院工学研究科金属材料工学専攻 東海大学連合大学院理工学研究科理工学専攻

書誌事項

タイトル別名
  • Influences of Electron Beam Irradiation on Impact Value for Silica Glass
  • セキエイ ガラス ノ ショウゲキチ ニ オヨボス デンシセン ショウシャ ノ エイキョウ

この論文をさがす

抄録

  Influences of electron beam (EB) irradiation on the impact value for silica glass were studied by using a standard Charpy impact test. EB irradiation below 0.216 MGy, which was one of short-time treatments of dry process at low temperature, increased impact values of the glass. As the EB irradiation generated dangling bonds of the E′ center at the silicon-oxygen atomic pairs in the silica glass, partial relaxation occurred at points of residual strain near dangling bonds in the network structure mainly constructed with silicon-oxygen pairs. If the inter-atomic distance of the silicon-oxygen pairs became to be optimum potential curves of the silica glass, the relaxation should increase the bonding energy of the network structure. Evidently, the increased impact value was mainly due to an increase in the bonding energy for the silicon-oxygen atomic pairs in the atomic network structure, as well as a relaxation of the network structure.<br>

収録刊行物

  • 日本金属学会誌

    日本金属学会誌 70 (10), 840-844, 2006

    公益社団法人 日本金属学会

被引用文献 (8)*注記

もっと見る

参考文献 (13)*注記

もっと見る

キーワード

詳細情報 詳細情報について

問題の指摘

ページトップへ