プラズマプロセスによるカーボンナノチューブ配向成長の現状と課題　　２．磁場中ＲＦプラズマＣＶＤによるカーボンナノチューブ配向成長

DOI NDLデジタルコレクション Web Site Web Site 被引用文献3件 参考文献61件

書誌事項

タイトル別名
  • Aligned Carbon Nanotube Formation via Radio-Frequency Magnetron Plasma Chemical Vapor Deposition
  • 磁場中RFプラズマCVDによるカーボンナノチューブ配向成長
  • ジバ チュウ RF プラズマ CVD ニ ヨル カーボンナノチューブハイコウ セイチョウ

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説明

The plasma-enhanced chemical vapor deposition method, which has such benefits as low synthesis temperature and vertical alignment control, was successfully applied to the single-walled carbon nanotube (SWNT) formation stage. By means of plasma sheath effects, the individual SWNT with a freestanding form was grown on a silicon-based flat substrate surface. The detailed plasma effects are also discussed in order to achieve more precise control of the growth of the carbon nanotube.

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