テンダー領域斜入射小角X線散乱法によるポリスチレン-<i>b</i>-ポリ(2-ビニルピリジン)薄膜の深さ方向の構造観察

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タイトル別名
  • Depth-Dependent Structural Analyses in PS-<i>b</i>-P2VP Thin Films as Revealed by Grazing Incidence Small Angle Scattering in the Tender Energy Region
  • テンダー領域斜入射小角X線散乱法によるポリスチレン-b-ポリ(2-ビニルピリジン)薄膜の深さ方向の構造観察
  • テンダー リョウイキ ナナメニュウシャ ショウカク Xセン サンランホウ ニ ヨル ポリスチレン-b-ポリ(2-ビニルピリジン)ハクマク ノ フカサ ホウコウ ノ コウゾウ カンサツ

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抄録

テンダー領域の斜入射小角X線散乱法(GISAXS)を用いることで，ポリスチレン-b-ポリ(2ビニルピリジン)(PS-b-P2VP)薄膜の深さ方向の構造変化について調べた．臨界組成の本試料は，熱力学的に最安定な状態は基板に平行なラメラ構造を形成することが想定される．本研究では，スピンコートにより製膜した試料とガラス転移温度上にアニールした試料をGISAXS測定により，深さ方向における構造を調べた．製膜試料の測定結果では，基板から表面方向に垂直配向していることがわかった．一方で，アニールした試料を測定した結果から，表面の構造は乱れており，基板近傍では垂直配向が残っていることが示唆された．

収録刊行物

  • 高分子論文集

    高分子論文集 74 (2), 109-113, 2017

    公益社団法人 高分子学会

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参考文献 (12)*注記

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