難加工材料におけるハイブリッド研磨微粒子の最適構造に関する研究
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- 鈴木 恵友
- 九工大 情報工学研究院機械情報光学研究系
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- Bun-Athuek Natthaphon
- 九工大 情報工学府学際情報工学専攻
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- 髙﨑 寛子
- 九工大 情報工学研究院生命情報光学研究系
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- 安永 卓生
- 九工大 情報工学研究院生命情報光学研究系
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- 吉本 裕
- 九工大 情報工学府学際情報工学専攻
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- パナート カチョーンルンルアン
- 九工大 情報工学研究院機械情報光学研究系
書誌事項
- タイトル別名
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- Study on the Optimization of Hybrid fine particles on Chemical Mechanical Polishing of Hard to process materials
- 化学的作用と機械的作用に関する考察
- Chemical reactivity and Mechanical action
抄録
<p>本研究ではコア微粒子上に直径4nmのナノシリカ微粒子や水酸化フラーレンを吸着により生成したハイブリット研磨微粒子を難加工研磨技術への適用を試みた.ここではコアシリカ微粒子の粒子径やナノシリカ微粒子水酸化フラーレンの吸着状態によりサファイアCMPの材料除去レートが変化した.そのためハイブリット研磨微粒子の構造を最適化することにより,化学的作用や機械的作用を独立に制御する手法を試みたので報告する.</p>
収録刊行物
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- 精密工学会学術講演会講演論文集
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精密工学会学術講演会講演論文集 2018A (0), 312-313, 2018-08-20
公益社団法人 精密工学会
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詳細情報
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- CRID
- 1390001288124966912
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- NII論文ID
- 130007602798
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可