雄花着花量の異なるスギクローンのジベレリン処理後の遺伝子発現解析

DOI
  • 坪村 美代子
    (国研)森林機構 森林総合研究所林木育種センター
  • 三嶋 賢太郎
    (国研)森林機構 森林総合研究所林木育種センター
  • 平尾 知士
    (国研)森林機構 森林総合研究所森林バイオ研究センター
  • 永野 聡一郎
    (国研)森林機構 森林総合研究所林木育種センター
  • 平川 英樹
    公益財団法人 かずさDNA研究所ゲノム情報解析施設

書誌事項

タイトル別名
  • Transcriptome analysis of the Japanese cedar clones after gibberellin treatment

説明

<p>スギはクローンによって雄花の着花量が異なることが知られており、着花量の少ないクローンは少花粉スギとしての利用が進められている。スギの雄花の着花量に関しては形質評価や遺伝性の報告はあるが、着花量の変異がどのような遺伝子によって決められているのか、明らかにした例はない。本研究では、着花量の異なるクローン群を使用してジベレリン(着花促進)処理後の遺伝子発現を解析した。過去のデータより雄花着花量の多い7クローンと少ない7クローンを関東育種基本区より選抜し、ジベレリン処理を行った。処理3時間後、10日後に針葉を採取・RNAを抽出し、合計28サンプルをRNA-seq(Illumina社 HiSeq 4000)解析に供した。各サンプル平均4,500万リードを取得し、Trinityによるde novoアセンブルを行い、約68,000のunigeneを構築した。リファレンス配列に各サンプルのリードをマッピングし、正規化した値を用いて、着花量に応じて発現量が変化する遺伝子群について解析した結果を報告する。</p>

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001288136887040
  • NII論文ID
    130007645706
  • DOI
    10.11519/jfsc.130.0_579
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

問題の指摘

ページトップへ