大気圧VHFプラズマCVDによるSiO<i><sub>x</sub></i>機能性コーティングプロセスの研究

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タイトル別名
  • Study of SiO<i><sub>x</sub></i> functional coating process by atmospheric pressure VHF plasma CVD

抄録

<p>我々は大気圧プラズマCVD法を用いた低温かつ高速なSiOx薄膜の形成技術の開発を進めている。今回、HMDSO(hexamethyldisiloxane)とポリスチレン粒子を用いて形成した、密着性が高くポーラスなSiOx薄膜について、膜構造や反射防止特性を調べたので発表する。</p>

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390010292564810880
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2021a.0_455
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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