A Study of Anti-reflection Coating Process for Transparent Substrates Using Atmospheric Pressure Plasma
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- Takeda Seiya
- Osaka University
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- Imai Yuichi
- Osaka University
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- Ohmi Hiromasa
- Osaka University
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- Kakiuchi Hiroaki
- Osaka University
Bibliographic Information
- Other Title
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- 大気圧プラズマを用いた透明基材用反射防止コーティングプロセスの研究
Abstract
<p>我々は大気圧プラズマCVD法を用いたSiOx薄膜の低温・高速形成技術の開発を進めている。本研究では、透明基材用反射防止コーティングとして応用できるポーラスなSiOx薄膜の形成を行うため、HMDSO(hexamethyldisiloxane)とポリスチレンラテックス粒子を用いた独自の大気圧プラズマプロセスを提案した。今回は、本プロセスを用いて形成したSiOx反射防止コーティングの膜構造および反射防止特性について報告する。</p>
Journal
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- Proceedings of JSPE Semestrial Meeting
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Proceedings of JSPE Semestrial Meeting 2022S (0), 719-720, 2022
The Japan Society for Precision Engineering
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390011804536021376
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
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- Abstract License Flag
- Disallowed