X線表面散乱法を用いた有機薄膜の構造形成と表面・界面モルフォロジーのその場観察

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タイトル別名
  • X-Ray Surface Scattering and its Application to Study on Structural Evolution of Thin Soft Materials

抄録

<p>表面敏感X線回折・散乱手法はランダムコイル状になった高分子の慣性半径以下の膜厚を有する，いわゆる高分子超薄膜における固-液相転移（融解&結晶化）およびガラス転移の研究に際しても有用である．本稿では生分解性高分子薄膜結晶内の分子鎖の配向と結晶性の制御を目的とした微小角入射X線散乱による高分子結晶のその場観察と，X線反射率の測定により得られた非晶質ポリスチレン薄膜のガラス転移時の膜厚とHeating/Cooling rateの双方に強く依存する転移幅について紹介する．</p>

収録刊行物

  • Ｘ線分析の進歩

    Ｘ線分析の進歩 48 (0), 62-72, 2017-03-31

    公益社団法人 日本分析化学会　X線分析研究懇談会

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390015675348083328
  • DOI
    10.57415/xshinpo.48.0_62
  • ISSN
    27583651
    09117806
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用可

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