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- 冨永 信秀
- 旭電化工業(株)新材料開発研究所
書誌事項
- タイトル別名
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- Development of High Resistance Developer for Direct Thermal Paper
- カンネツシヨウ コウ ホゾンセイ ケンショクザイ ノ カイハツ 1
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説明
本研究では,感熱紙における記録保存性の向上を目的として,高保存性顕色剤の開発を進め,染料と顕色剤の発色ならびに安定性について,分子軌道計算にもとづいて考察し,顕色剤の分子デザインを行った.その結果,変異原性陰性の2,4-ジヒドロキシ-2-メトキシベンズアニリド(SV-3)を新たに見い出した.<BR> 分子シュミレーションにより,SV-3は電子受容性の顕色剤として働き,電子供与性の染料との間に電荷の移動が起こりやすい分子軌道を有していることが分かった.また,それぞれの軌道間の重なりが大きくとれる分子構造が発色の保存性に重要であることが明らかになった.
収録刊行物
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- 電子写真学会誌
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電子写真学会誌 34 (2), 68-75, 1995
一般社団法人 日本画像学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679075028736
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- NII論文ID
- 130004484710
- 40004297959
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- NII書誌ID
- AN00261409
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- ISSN
- 18805108
- 0387916X
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- NDL書誌ID
- 3629557
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可