走査トンネル顕微鏡による銀電析過程の観察

DOI Web Site 被引用文献1件 参考文献15件
  • 中村 高士
    早稲田大学理工学部; 各務記念材料技術研究所
  • 田辺 正幸
    早稲田大学理工学部; 各務記念材料技術研究所
  • 本間 敬之
    早稲田大学理工学部; 各務記念材料技術研究所
  • 逢坂 哲彌
    早稲田大学理工学部; 各務記念材料技術研究所

書誌事項

タイトル別名
  • Scanning Tunneling Microscopy Study on Electrodeposition Process of Silver.
  • ソウサ トンネル ケンビキョウ ニヨル ギン デンセキ カテイ ノ カンサツ

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抄録

The growth morphologies of electrodeposited silver under potential control on an Au (111) surface from the solutions of 5mM AgNO3/0.5M HNO3 and 5mM KAg (CN)2/0.5M KCN were investigated using Scanning Tunneling Microscopy (STM) in air. The silver films were deposited between 20mV and 100mV overpotential. From 5mM AgNO3/0.5M HNO3, silver was deposited like a single crystal along the gold substrate at 20mV overpotential. At 50mV overpotential large grains (300-500nm) were formed. Finally, at 100mV overpotential rough films were formed. From 5mM KAg (CN)2/0.5M KCN, silver was deposited like a single crystal at 20mV overpotential, and between 50mV and 100mV, smaller grain deposition with 50-100nm particles were clearly deposited compared to the deposit from 5mM AgNO3/0.5M HNO3.

収録刊行物

  • 表面技術

    表面技術 46 (10), 956-959, 1995

    一般社団法人 表面技術協会

被引用文献 (1)*注記

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参考文献 (15)*注記

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