先端半導体洗浄技術の課題と展望

DOI Web Site 被引用文献6件参考文献19件

書誌事項

タイトル別名

Problems and Perspectives in Leading-Edge Semiconductor Wafer Cleaning Technology
センタンハンドウタイセンジョウギジュツノカダイトテンボウ

CRID

1390282679094003456
NII論文ID

10024277458
NII書誌ID

AN1005202X
DOI

10.4139/sfj.59.526
COI

1:CAS:528:DC%2BD1cXhtVCntb7K
ISSN

18843409

09151869
NDL書誌ID

9610904
Web Site

http://id.ndl.go.jp/bib/9610904

https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9610904
本文言語コード

ja
データソース種別
- JaLC
- NDLサーチ
- Crossref
- CiNii Articles