書誌事項
- タイトル別名
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- Effect of Pulse Parameters on the Crystal Orientation and Etching Rate of Copper Films
- パルス デンカイ ジョウケン ガ ドウメッキ ヒマク ノ ケッショウハイコウセイ ト エッチングレート ニ アタエル エイキョウ
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収録刊行物
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- 表面技術
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表面技術 64 (6), 368-370, 2013
一般社団法人 表面技術協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679095259776
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- NII論文ID
- 10031178044
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- NII書誌ID
- AN1005202X
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- COI
- 1:CAS:528:DC%2BC3sXhtlWrtb3J
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- ISSN
- 18843409
- 09151869
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- NDL書誌ID
- 024687238
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles