書誌事項
- タイトル別名
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- Synthesis of Monodisperse Hydrophobic Silicone Particles in the Submicron Size
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抄録
ハイエンドのエレクトロニクス分野において,サブミクロンサイズの単分散ポリアルコキシシラン(シリコーン)粒子は絶縁材料の添加剤として用いられる。本研究の目的は強い疎水性を有する単分散のシリコーン粒子の合成方法を確立することである。ジメチルジメトキシシラン(DMDMS),メチルトリメトキシシラン(MTMOS)およびテトラアルコキシシシランをモノマーとして粒子合成に用いた。モノマー濃度,モノマーの配合比,触媒量および反応温度の最適化により単分散疎水性シリコーン微粒子を合成できることがわかった。
収録刊行物
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- 色材協会誌
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色材協会誌 89 (4), 107-112, 2016
一般社団法人 色材協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679117083520
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- NII論文ID
- 130005165413
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- NII書誌ID
- AN00354634
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- ISSN
- 18832199
- 0010180X
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- NDL書誌ID
- 027310799
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- 本文言語コード
- en
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可