サブミクロンサイズの単分散疎水性シリコーン粒子の合成

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  • Synthesis of Monodisperse Hydrophobic Silicone Particles in the Submicron Size

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抄録

ハイエンドのエレクトロニクス分野において，サブミクロンサイズの単分散ポリアルコキシシラン（シリコーン）粒子は絶縁材料の添加剤として用いられる。本研究の目的は強い疎水性を有する単分散のシリコーン粒子の合成方法を確立することである。ジメチルジメトキシシラン（DMDMS），メチルトリメトキシシラン（MTMOS）およびテトラアルコキシシシランをモノマーとして粒子合成に用いた。モノマー濃度，モノマーの配合比，触媒量および反応温度の最適化により単分散疎水性シリコーン微粒子を合成できることがわかった。

収録刊行物

  • 色材協会誌

    色材協会誌 89 (4), 107-112, 2016

    一般社団法人 色材協会

参考文献 (8)*注記

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