サブミクロンサイズの単分散疎水性シリコーン粒子の合成

書誌事項

タイトル別名
  • Synthesis of Monodisperse Hydrophobic Silicone Particles in the Submicron Size

この論文をさがす

抄録

ハイエンドのエレクトロニクス分野において,サブミクロンサイズの単分散ポリアルコキシシラン(シリコーン)粒子は絶縁材料の添加剤として用いられる。本研究の目的は強い疎水性を有する単分散のシリコーン粒子の合成方法を確立することである。ジメチルジメトキシシラン(DMDMS),メチルトリメトキシシラン(MTMOS)およびテトラアルコキシシシランをモノマーとして粒子合成に用いた。モノマー濃度,モノマーの配合比,触媒量および反応温度の最適化により単分散疎水性シリコーン微粒子を合成できることがわかった。

収録刊行物

  • 色材協会誌

    色材協会誌 89 (4), 107-112, 2016

    一般社団法人 色材協会

参考文献 (8)*注記

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

問題の指摘

ページトップへ