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- 尾辻 淳
- 大阪歯科大学大学院歯学研究科 口腔衛生学専攻
書誌事項
- タイトル別名
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- Effect of Iontophoresis on Fluoride Uptake and Retention in Enamel
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抄録
フッ化物歯面塗布法のう蝕予防効果をより高めるために, フッ素イオン導入法の原理を応用して2%NaF溶液 (pH5.0) を通電下で作用させることが, エナメル質表層フッ素の保持にどのような影響を及ぼすかをin vitroで検討した. すなわち, 可変式直流安定化電源装置の両端子間にウシエナメル質ブロックを置き, 通電しながらNaF溶液を作用し, 作用後のエナメル質表層における一定深さでのフッ素濃度について, 通電の有無, 通電量 (50, 100および200μA), 作用時間 (2分間, 4分間および4分間3日連日) および作用後の人工唾液中の保存期間 (30分, 24時間および1週間) の各要因から分析し, 合わせてエナメル質表層のKOH不溶性フッ素濃度についても検討した.<br> その結果, 通電下で作用した場合の作用後30分におけるエナメル質表層のフッ素濃度, すなわち取り込み量は通電せずに作用した場合に比べ明らかに高くなり, また, 電流量の増加および作用時間を延長した場合にも高くなった. さらに通電下で2分間作用した場合のエナメル質表層フッ素の取り込み量および保持量は, 通電せずに4分間作用した場合よりも高くなった. 一方, エナメル質表層における作用後24時間の保持量にしめるKOH不溶性フッ素量も通電下で高く, 電流量の増加および作用時間の延長により高くなった.<br> したがって, ウシエナメル質に2%NaF溶液を通電下で作用することにより, エナメル質表層へのフッ素の取り込み量が増大し, その後のエナメル質のフッ素保持量も増大することが明らかとなった.
収録刊行物
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- 歯科医学
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歯科医学 53 (1), 1-24, 1990
大阪歯科学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679186446848
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- NII論文ID
- 110001723294
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- ISSN
- 2189647X
- 00306150
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可