2, 5-ジメチル-p-ベンゾキノンを原料としたCVD炭素質薄膜 (1)

  • 于 洪按
    科学技術振興事業団吉村π電子物質プロジェクト
  • 金子 友彦
    東海大学開発工学部素材工学科
  • 大谷 杉郎
    東海大学開発工学部素材工学科
  • 吉村 進
    科学技術振興事業団吉村π電子物質プロジェクト
  • 大谷 朝男
    群馬大学工学部材料工学科 東海大学開発工学部

書誌事項

タイトル別名
  • Carbonaceous Thin Films Made by Chemical Vapor Deposition of 2, 5-Dimethyl-p-benzoquinone (1)
  • 2 5 ジメチル p ベンゾキノン オ ゲンリョウ ト シタ CVD タンソシ
  • Preparation and Structure
  • 薄膜の調製と構造

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説明

It was reported that a photovoltaic cell with carbonaceous film/n-type silicon (C/n-Si) was fabricated utilizing a process in which a carbonaceous film was deposited on an n-type silicon substrate by chemical vapor deposition (CVD) of 2, 5- dimethyl-p-benzoquinone at 500°C The purpose of this work is to study preparation and structure of the carbonaceous film. In this study, the carbonaceous films were made by CVD of 2, 5-dimethyl-p-benzoquinone on a quartz substrate at a temperature between 500 and 1000°C. The 2, 5-dimethyl-p-benzoquinone shows higher reaction activity for carbonization at low temperatures. At low CVD temperatures below 700°C, the carbonization reaction of 2, 5- dimethyl-p-benzoquinone was mainly caused by pyrolysis of its methyl and carbonyl groups. The carbonaceous film deposited at low temperatures below 700°C has a typical amorphous structure, and the one deposited above 700°C has a graphite-like lamellar structure oriented along the substrate.

収録刊行物

  • 炭素

    炭素 1997 (178), 101-107, 1997

    炭素材料学会

被引用文献 (3)*注記

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参考文献 (7)*注記

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