フッ素とフッ化銅(II)の黒鉛層間化合物の合成

中島 剛, 川口 雅之, 川崎 卓, 渡辺 信淳

doi:10.1246/nikkashi.1983.283

書誌事項

タイトル別名

Preparation of Graphite Intercalation Compounds of Fluorine and Copper(II) Fluoride
ふっ素とふっ化銅（ＩＩ）の黒鉛層間化合物の合成

説明

20～343℃の温度範囲で空気中でも比較的安定なフッ素とCuF₂の第1ステージ黒鉛層間化合物C_xF(CuF₂),(x=5～13,y=O.01～0.07)が生成した。そのc軸方向の周期距離は9.3～9.4Åで,AIF₃やMgF₂ の層間化合物とほとんど同じであった。ESCA測定から,層間化合物の表面には反応温度が上がるにしたがってフッ化黒鉛に類似したC-F結合が増加し,また¹⁹F-NMR測定から,バルクに含まれるフッ素は液体に近い状態にあることが示された。

収録刊行物

日本化学会誌（化学と工業化学）

日本化学会誌（化学と工業化学） 1983 (2), 283-286, 1983-02-10

公益社団法人日本化学会

詳細情報詳細情報について

CRID: 1390282679367219840

NII論文ID: 130004060183

DOI: 10.1246/nikkashi.1983.283

ISSN: 21850925; 03694577

Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/nikkashi1972/1983/2/1983_2_283/_pdf

データソース種別

JaLC
Crossref
CiNii Articles

抄録ライセンスフラグ: 使用不可

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