複合ナノインプリントプロセスとデバイスへの応用

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タイトル別名
  • Compound Nanoimprint Processes and Their Applications for Devices
  • フクゴウ ナノインプリントプロセス ト デバイス エ ノ オウヨウ

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抄録

In this paper, fabrication methods of metal patterns using ultraviolet nanoimprint lithography (UV-NIL) and electrodeposition are demonstrated. Since the photocurable resin patterned by UV-NIL was directly used for electrodeposition mask, the simple and high-throughput fabrication process was realized. Several examples of functional device using these methods are described.

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