書誌事項
- タイトル別名
-
- Hydrogen Permeation Performance and Hydrothermal Stability for Sol-gel Derived Pd-doped Silica Membranes
- ゾル-ゲル法によるPdドープシリカ膜の開発と水素透過特性・耐水蒸気性の評価
- ゾル ゲルホウ ニ ヨル Pd ドープシリカ マク ノ カイハツ ト スイソ トウカ トクセイ タイスイ ジョウキセイ ノ ヒョウカ
この論文をさがす
説明
ゾル–ゲル法によりPdドープシリカ膜を製膜し,水素透過特性,熱安定性,水素還元による気体透過特性の変化,耐水蒸気性について検討した.Pdドープシリカ膜のTEM観察より,Pdドープシリカ層の膜厚は80 nm程度であることが明らかになり,超薄膜形成が可能であった.また,Pdはシリカマトリックス中に,数nmから10 nm程度の大きさで分散していることが明らかになった.550℃空気雰囲気で製膜したPdドープシリカ膜(Si/Pd53/1)は,乾燥窒素雰囲気(500℃)で熱安定性を有するが,還元雰囲気(500℃, H2)でPdが凝集し,シリカネットワークの緻密化と粒界細孔を閉塞した.550℃水素雰囲気で製膜したPdドープシリカ膜(Si/Pd53/1)は,還元雰囲気(500℃, H2),水蒸気雰囲気(500℃, steam: 70 kPa)で高い安定性を有していた.
収録刊行物
-
- 化学工学論文集
-
化学工学論文集 36 (5), 472-479, 2010
公益社団法人 化学工学会
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1390282679488982528
-
- NII論文ID
- 10027619264
-
- NII書誌ID
- AN00037234
-
- ISSN
- 13499203
- 0386216X
-
- NDL書誌ID
- 10946590
-
- 本文言語コード
- ja
-
- データソース種別
-
- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
- KAKEN
-
- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可