書誌事項
- タイトル別名
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- Properties of Electroplated Nickel Film from Low Concentration Sulfamate Baths and Its Application to MEMS
- テイノウド スルファミンサンヨク カラ ノ ニッケルメッキ ヒマク ノ トクセイ ト MEMS エ ノ オウヨウ
- 公開日
- 2011
- DOI
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- 10.5104/jiep.14.55
- 公開者
- 一般社団法人エレクトロニクス実装学会
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説明
半導体デバイスやMEMS用のセンサには，ニッケルめっきが多く用いられ，低応力や高硬度なめっき皮膜が求められている。これらに適したニッケルめっきは，低内部応力，高抗張力を有するスルファミン酸ニッケル浴である。そこで，スルファミン酸ニッケル浴を基本浴とし，電流密度，浴pH，温度，金属塩濃度を変化させ，めっき皮膜物性に及ぼす影響を調査した。その結果，金属塩濃度が，めっき皮膜物性に大きく影響を与えることを確認した。金属塩濃度を50.0 g/dm3まで低下させた場合，硬度が459 Hv，抗張力が1,306 MPaと著しく向上した。また，MEMSとしてカンチレバー型プローブへのめっきを行い，その特性を評価した。
収録刊行物
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- エレクトロニクス実装学会誌
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エレクトロニクス実装学会誌 14 (1), 55-62, 2011
一般社団法人エレクトロニクス実装学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679537826048
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- NII論文ID
- 10027126144
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- NII書誌ID
- AA11231565
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- COI
- 1:CAS:528:DC%2BC3MXhs1CisL8%3D
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- ISSN
- 1884121X
- 13439677
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- NDL書誌ID
- 10968314
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDLサーチ
- Crossref
- CiNii Articles
- OpenAIRE
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可