光電子スペクトロホログラフィー法の開発

DOI
  • 二瓶 好正
    東京理科大学理工学部工業化学科
  • 尾張 真則
    東京大学生産技術研究所 東京大学環境安全研究センター
  • 石井 秀司
    東京大学生産技術研究所
  • 大森 真二
    ソニー株式会社セミコンダクタネットワークカンパニーLSIテクノロジー開発部門リソグラフィ技術部
  • 白木 將
    理化学研究所表面化学研究室

書誌事項

タイトル別名
  • Development of photoelectron spectroholography
  • For investigating 3D atomic images of solid surfaces
  • 固体表面の三次元原子配列を観るために

説明

固体表面ならびに界面の構造と状態を解析するために,光電子回折と光電子ホログララフィーを併用した新しい方法論の確立をめざして,測定装置と解析アルゴリズムを開発した.エネルギーの異なる複数光源を組み合わせる方法を光電子スペクトロホログラフィーと名づけている.本装置の特徴は,複数励起光源,高性能角度分解電子分光器,高エネルギー光電子測定などの機能を合わせて実現したことにある.また,新しいアルゴリズムである差分・微分光電子ホログラフィーは比較的容易に正確な原子像を与えることがわかった.

収録刊行物

  • 応用物理

    応用物理 71 (4), 401-407, 2002

    公益社団法人 応用物理学会

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282679573128960
  • NII論文ID
    130003594512
  • DOI
    10.11470/oubutsu1932.71.401
  • COI
    1:CAS:528:DC%2BD38Xjs1alsrg%3D
  • ISSN
    21882290
    03698009
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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