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- 藤山 寛
- 長崎大学工学部電気情報工学科
書誌事項
- タイトル別名
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- Inner coating of narrow tube using plasmas
- プラズマ オ モチイタ サイカン ナイヘキ エ ノ ハクマク コーティング
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抄録
プラズマプロセスを用いた薄膜形成や表面処理およびエッチング技術は,半導体製造に欠かせない遵翼となっている,しかしながら,その大部分はシリコンウエ八一などの平板状基板を対象とするプロセスであり,さ:らに幅広い分野への応用を考えると複雑形状物へのプロセスやそのためのプラズマ生成技術の開発が急務となっている.本稿では,金属および絶縁物長細管内での低圧力高密度プラズマ生成技術を紹介し,その応用としてスパッタリング法による細管内壁への薄膜コーチィング技術の開発状況について紹介する.
収録刊行物
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- 応用物理
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応用物理 67 (1), 63-67, 1998
公益社団法人 応用物理学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679573512448
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- NII論文ID
- 130003593754
- 10004811389
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- NII書誌ID
- AN00026679
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- ISSN
- 21882290
- 03698009
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- NDL書誌ID
- 4365232
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可