Measurement of Strains in Heteroepitaxial Films

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  • ヘテロエピタキシャル膜のひずみ測定

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ヘテロエピタキシャル膜の多くは,“単結晶”であるとはいえ,“不完全結晶”である.X線二結晶法による測定から,格子定数のぱらつき(格子定数分布)は小さいが,結晶粒の方位のばらつき(方位分布)が大きい(数外程度)ことがわかる.すなわち,膜はモザイク結晶になっていると思われる.したがって,このような膜の格子ひずみをX線回折法により測定する場合,ωモード(結晶回転角測定)よりも,2θ/θモードのような回折角測定を行ったほうが,精度がよい.膜の結晶学的諄価と,ひずみ測定法について述べる.

Journal

  • Oyo Buturi

    Oyo Buturi 57 (3), 353-358, 1988

    The Japan Society of Applied Physics

Keywords

Details 詳細情報について

  • CRID
    1390282679573522560
  • NII Article ID
    130003592172
  • DOI
    10.11470/oubutsu1932.57.353
  • COI
    1:CAS:528:DyaL1cXmsVSrt7c%3D
  • ISSN
    21882290
    03698009
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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