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- 杉岡 幸次
- 理化学研究所
書誌事項
- タイトル別名
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- Comparison between DUV/VUV and Femtosecond Laser Processing of Dielectrics and Semiconductors.
- レーザー解説 誘電体及び半導体のDUV/VUVレーザー加工とフュムト秒レーザー加工の比較
- レーザー カイセツ ユウデンタイ オヨビ ハンドウタイ ノ DUV VUV レーザー カコウ ト フュムトビョウ レーザー カコウ ノ ヒカク
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抄録
Both of DUV/VUV and femtosecond lasers are expected as novel tools for materials processing for the next generation. DUV/VUV laser is good at surface micropatterning and surface shaping, while femtosecond laser is suitable for internal modification of transparent materials as well as micro-hole drilling, cutting and high aspect ratio machining. In this paper, precison microfabrication of dielectrics and semiconductors using DUV/VUV and femtosecond lasers are reviewed, and features of each laser processing are compared.
収録刊行物
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- レーザー研究
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レーザー研究 30 (5), 226-232, 2002
一般社団法人 レーザー学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679622264960
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- NII論文ID
- 10008508763
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- NII書誌ID
- AN00255326
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- COI
- 1:CAS:528:DC%2BD38XlvVGqsLg%3D
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- ISSN
- 13496603
- 03870200
- http://id.crossref.org/issn/03870200
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- NDL書誌ID
- 6168098
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
