Development of Ga-Doped Transparent Conducting Zinc Oxide Films by Joule-Heating Pulsed Laser Deposition

DOI Web Site Web Site 26 References
  • NARAZAKI Aiko
    Photonics Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Central 5, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8565
  • NIINO Hiroyuki
    Photonics Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Central 5, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8565

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Other Title
  • ジュール加熱パルスレーザー堆積法によるGaドープZnO透明導電膜の開発
  • Laser Original ジュール加熱パルスレーザー堆積法によるGaドープZnO透明導電膜の開発
  • Laser Original ジュール カネツ パルスレーザー タイセキホウ ニ ヨル Ga ドープ ZnO トウメイ ドウデン マク ノ カイハツ

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Abstract

Ga-doped zinc oxide films were prepared by a novel Joule-heating pulsed laser deposition (PLD)

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