イオンビームリソグラフィ

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  • Ion beam lithography.

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抄録

イオンビームリソグラフィは既存の装置を用いても高いスループットが得られ,しかも高分解能の描画ができることを述べた.すでにデバイスプロセスへの応用も試みられているが,まだ研究段階である.<BR>照射損傷の問題は,プロセスの工夫,適当なアニールによって解決できよう.したがってX線リソグラフィと同様にマスクプロセス,マスクアライメントが問題となる.この技術が開発されれば,0.5μm以下の超微細パターン描画に重要な技術となろう.

収録刊行物

  • 精密工学会誌

    精密工学会誌 53 (11), 1677-1681, 1987

    公益社団法人 精密工学会

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