CoCrTa/Cr磁性薄膜におけるSi基板前処理効果の検討 (<特集>磁気記録媒体)

DOI NDLデジタルコレクション Web Site 参考文献19件
  • 逢坂 哲彌
    早稲田大学理工学部応用化学科; 各務記念材料技術研究所
  • 本間 敬之
    早稲田大学理工学部応用化学科; 各務記念材料技術研究所
  • 黒川 義昭
    早稲田大学理工学部応用化学科; 各務記念材料技術研究所
  • 田口 智―
    早稲田大学理工学部応用化学科; 各務記念材料技術研究所
  • 瀧澤 敦尚
    早稲田大学理工学部応用化学科; 各務記念材料技術研究所

書誌事項

タイトル別名
  • Effect of Pre-treatment of Si Substrate in CoCrTa/Cr Magnetic Films
  • CoCrTa/Cr磁性薄膜における Si 基板前処理効果の検討
  • CoCrTa Cr ジセイ ハクマク ニ オケル Si キバン マエショリ コ

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抄録

CoCrTa/Cr magnetic films on Si(100) substrates with and without HF pre-treatment were prepared by dc magnetron sputtering. It was found that the coercivity was increased by HF pre-treatment of the Si substrate for Cr underlayers of various thicknesses. The microstructure analyses of the magnetic films using XRD. FE-SEM,and TEM showedthat the crystallinity and the orientation of the c-axis in the film plane were enhanced and that the grain size was increased by HF pre-treatment.

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参考文献 (19)*注記

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