Reaction of Silicon and Phosphorus at High Temperature and High Pressure

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  • 高温高圧下におけるケイ素とリンの反応

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ケイ素とリンの反応系について,Bridgman型ピストンシリンダーおよび六面体型アンビル超高圧装置を用いて,温度1100°～1800℃,圧力15～50kbの高温高圧下で反応性が検討された。X線解析の結果,これらの反応条件では五種類の高圧相が得られることが明らかになった。この高圧相の中には,黄鉄鉱型構造で格子定数α=5.682AのSiP2とセン亜鉛鉱型構造で格子定数α=5.241AのSiPが含まれている。X線回折により高温高圧下でのケイ素-リン系の主要な反応過程が検討され,主反応過程に対する温度,圧力,反応時間,および反応物中のケイ素とリンの混合比の効果が調べられた。この反応系は温度,圧力によって影響されるだけでなく反応物の組成,反応時間によっても大きく影響される。SiP2は主として1100°～1500℃,20～40kbで生成し,SiPは1800℃,40～50kbの反応条件でSiP2→SiP+Pの反応を経て生成するものと考えられる。

Journal

  • Nippon kagaku zassi

    Nippon kagaku zassi 87 (11), 1169-1173,A67, 1966

    The Chemical Society of Japan

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