書誌事項
- タイトル別名
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- Preparation of Organically Modified Silica Gels by Sol-Gel Process and Their Pore Structure
- ゾル ゲルホウ ニ ヨル ユウキ シュウショク シリカゲル ノ チョウセイ オヨビ ソノ サイコウ コウゾウ
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抄録
ゾル-ゲル法によりテトラエトキシシランSi (OEt) 4 (TEOS) と2官能性のシリコンアルコキシドRMeSi (OMe) 2 (DSA : R=CH3 (Me), CH=CH2 (Vinyl), C6H5 (Ph)) の混合溶液から有機修飾シリカゲルを調製し, 得られた物質の細孔構造を窒素吸着でしらべた。有機修飾シリカゲルはDSAの物質量分率 (XD=DSA/ (TEOS+DSA)) が0.3以下で生成した。XDの増加とともにゲル中に導入されたR基量は増加した。MeおよびVinyl基で修飾したゲルのマイクロ孔容積および細孔径はTEOSから調製したゲルより大きかった。一方, Ph基で修飾したゲルの吸着等温線はXDが増加するとI型からII型になり, 比表面積およびマイクロ孔容積が減少した。これらのことから, ゲルの細孔構造はR基を導入すると変化することがわかった。
収録刊行物
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- Journal of the Japan Society of Colour Material
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Journal of the Japan Society of Colour Material 75 (9), 421-425, 2002
Japan Society of Colour Material
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680446644864
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- NII論文ID
- 10009679624
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- NII書誌ID
- AN00354634
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- COI
- 1:CAS:528:DC%2BD38Xos1Wks7g%3D
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- NDL書誌ID
- 6305349
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- ISSN
- 0010180X
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可