Effect of Surfactant on the Etching Properties of Copper in Ferric Chloride Solution
-
- niiyama takashi
- Guraduate school of engineering Utsunomiya university
-
- Kubota Kenji
- Guraduate school of engineering Utsunomiya university Mitsubishi material corporation
-
- Matsumoto Katsutoshi
- Hachinohe technical college
-
- Yoshihara Sachio
- Guraduate school of engineering Utsunomiya university
Bibliographic Information
- Other Title
-
- 塩化第二鉄溶液を用いた銅のエッチング特性における界面活性剤の影響
Abstract
近年、プリント配線板の回路形成において、微細化したレジスト間へのエッチング液の浸透性を上げるために、界面活性剤を添加したエッチング液が用いられている。本研究では、第二塩化鉄エッチング液への界面活性剤添加の影響を明らかにするため電気化学的手法を用いて回転ディスク電極によるエッチング溶液の電流電位曲線を測定した。また、エッチング後の銅板の表面仕上がりをAFMにより観察した。界面活性剤はノニオン系、アニオン系、カチオン系を用いた。エッチング液に添加剤を加えたところ反応速度が低下した。AFMによる表面観察では、添加剤の種類によって表面粗さが異なる結果となった。
Journal
-
- Proceedings of JIEP Annual Meeting
-
Proceedings of JIEP Annual Meeting 26 (0), 250-252, 2012
The Japan Institute of Electronics Packaging
- Tweet
Keywords
Details 詳細情報について
-
- CRID
- 1390282680531738368
-
- NII Article ID
- 130005469926
-
- Text Lang
- ja
-
- Data Source
-
- JaLC
- CiNii Articles
-
- Abstract License Flag
- Disallowed