リン修飾ZSM-5触媒によるヘキサンの接触分解

山口 有朋, Jin Dingfeng, 池田 拓史, 佐藤 剛一, 日吉 範人, 白井 誠之, 水上 富士夫, 花岡 隆昌

doi:10.11523/sekiyu.2011f.0.37.0

リン修飾ZSM-5触媒によるヘキサンの接触分解

DOI

山口有朋

(独)産業技術総合研究所
Jin Dingfeng

(独)産業技術総合研究所
池田拓史

(独)産業技術総合研究所
佐藤剛一

(独)産業技術総合研究所
日吉範人

(独)産業技術総合研究所
白井誠之

(独)産業技術総合研究所
水上富士夫

(独)産業技術総合研究所
花岡隆昌

(独)産業技術総合研究所

書誌事項

タイトル別名

Catalytic steam cracking of <I>n</I>-hexane over phosphorus modified ZSM-5 catalysts

説明

ZSM-5触媒を用いたナフサの水蒸気接触分解反応は、比較的低温で高いオレフィン収率が得られるが、触媒の失活が速く、実用化には至っていない。本研究では、ZSM-5の耐久性向上を目的とし、リンによる化学修飾を検討した。ナフサのモデルとしてヘキサンの水蒸気接触分解反応を行った。リン担持量を最適化することにより、リンで修飾したZSM-5触媒は、水蒸気接触分解反応の触媒寿命が向上することを明らかにした。