液中プラズマ化学蒸着における基板熱膨張のダイヤモンドの生成への影響
書誌事項
- タイトル別名
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- An influence of the thermal expansion of the substrate on the diamond deposition using in-liquid plasma CVD method
説明
液中プラズマ化学蒸着法におけるダイヤモンドの生成には，基板の材質や基板の表面処理方法が重要である．本研究では基板の材質や表面処理方法を変化させ，液中プラズマ化学蒸着法における適切な基板の材質と表面処理方法の実験を行った．適切な基板の材質と表面処理方法はSiにダイヤモンドパウダーを用いて研磨を行った基板が良好な結果が得られた．また，実験に用いた基板の温度における線膨張係数を比較し，ダイヤが成膜できた基板ではダイヤモンドの線膨張係数の曲線に近いことが分かった．またSiがダイヤモンドの線膨張係数の曲線に最も近似しており最適だと考えられる．
収録刊行物
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- 日本伝熱シンポジウム講演論文集
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日本伝熱シンポジウム講演論文集 2011 (0), 238-238, 2011
社団法人 日本伝熱学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680566376448
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- NII論文ID
- 130005019195
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
