Determination of film density using low-power X-ray diffractometry

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  • 低出力X線回折装置による薄膜の密度測定

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X線反射率(X-Ray Reflection:XRR)法は物質がX線を全反射する性質を利用した分析方法である。XRR測定により得られた反射率のプロファイルから臨界角や振動構造の情報を得る事ができる。それらの情報を基に薄膜の膜厚、表面及び界面荒さや膜密度など薄膜の状態の評価を行う事が可能である。測定するにあたり、反射強度が角度の増加と共に急激に減少するため、18 kWなど高出力のX線源を必要とする。しかし、薄膜の密度をのみ求める場合、臨界角の情報のみが必要なため低出力でも可能であると考えられる。そこで本研究は1.6 kWの低出力X線回折装置を用いてXRR測定を行い、薄膜状態を評価することを試みた。測定試料は単結晶(100)Siとし、理論値との比較を行った。Siの理論密度は2.33 g/cm-3に対し、XRR測定により計算したSi密度は2.25 g/cm-3であった。このことより、低出力X線回折装置によるXRR測定により膜密度の算出が可能であることが示唆された。

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  • CRID
    1390282680591438464
  • NII Article ID
    130006971085
  • DOI
    10.14853/pcersj.2005s.0.271.0
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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