溶液法による酸化亜鉛膜の作製と物性評価
書誌事項
- タイトル別名
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- A low-temperature synthesis of zinc oxide films
抄録
酸化亜鉛は代表的なワイドギャップ半導体であり、透明導電膜や蛍光体としての特性を有する。溶液法での合成では低温で酸化亜鉛が直接合成できる。本研究では、溶液法を用いたZnO膜の作製を行ったところ、100℃以下でも六角柱が緻密に並び、c軸配向した膜が得られることが明らかになった。スパッタ法で作製した膜と比較したところ、柱間の空隙があり、また膜中に水分やSi、Cl等の不純物が残存していることが確認された。それらの比較に基づいて、電気特性の改善を試みたところ、500℃の焼結によって膜の緻密化が進行し、電気抵抗が低下した。
収録刊行物
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- 日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
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日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集 2009S (0), 98-98, 2009
公益社団法人 日本セラミックス協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680595581440
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- NII論文ID
- 130006977634
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可